10月16日-18日，首届“湾芯展SEMiBAY”——湾区半导体产业生态博览会在深圳会展中心（福田）圆满举行。展会期间，湾芯展SEMiBAY同期举办新品发布活动，助力促进企业新品的快速推广与应用，加速行业新技术的创新与转化。

现场媒体提问

新品发布活动现场，广东精瓷、超纯科技、深圳国家高技术产业创新中心、研微半导体等多家企业/机构发布了在核心零部件、水处理、智能分析平台、先进设备等多领域创新力作，并回答现场媒体提问，吸引了大批专业观众驻足观摩，成为本次展会的一道靓丽风景线。

——静电卡盘ESC新品FCME0102Ce00100

广东精瓷新材料有限公司（以下简称“广东精瓷”）CMO於定新在现场发布静电卡盘ESC新品FCME0102Ce00100。於定新介绍称，这款静电卡盘ESC新品属于库仑型，具有高强度、高温度均匀性、高加工精度等特点。

广东精瓷新材料有限公司CMO於定新

从材料来看，产品采用高纯氧化铝材料，具有很好的抗等离子侵蚀性、机械强度高、良好的热导性和热震特点。从结构上来看，该产品主要由陶瓷功能层和铝基座组成。在陶瓷功能层上有分区氦气小气孔和多孔陶瓷，能保证出气均匀，做到良好传热及电弧屏蔽；同时加热内置，不存在粘结低导热层，可以做到温度反馈灵敏、温度均匀可控，使产品具有高可靠性。在铝基座中，除了做有氦气配套设计，里面的冷却通道采用多个独立单元设计，使得冷却效果更均匀。

在媒体提问环节，现场媒体问及这款产品对环境的影响，於定新表示该产品考虑了可持续性。产品使用的是无卤素、无有毒元素的高纯氧化铝材料，整个生产过程无污染物质参与，加工过程中产生的边角料、不良品可回收重复利用于低端日用瓷、建筑填料等其他相关行业。

广东精瓷具有多年HTCC研发及生产经验，专注于半导体用陶瓷静电卡盘ESC、精密陶瓷真空吸盘及氮化铝陶瓷发热体的研发制造。

——纯水制备和废水处理综合解决方案

活动现场，深圳超纯水科技股份有限公司（以下简称“超纯科技”）市场部总监陆家兴带来纯水制备和废水处理综合解决方案。

陆家兴介绍称，超纯科技的纯水制备和废水处理综合解决方案包括超纯水系统及设备、废水系统及设备、绿色循环再生资源化应用等，在环境影响和经济效益上均拥有优势。

深圳超纯水科技股份有限公司市场部总监陆家兴

    

环境影响方面，超纯科技的纯水制备和废水处理解决方案和产品服务对环境的影响是显著积极的，如电子超纯水系统在2023年11月，日产水量突破100万吨，位居全国之首，体现了在减少水资源浪费和提高水资源利用效率方面的领先地位。在经济效益方面，超纯科技的综合解决方案在成本方面具有很高的投资回报率，通过采用超纯科技的超纯水系统，企业可以显著降低运营成本。

对于现场媒体问到的该解决方案在不同规模的企业中实施的难易程度和效果，陆家兴回答表示，超纯科技的系统设计灵活，可以根据不同规模企业的需求进行定制，对于大型企业，可以提供大规模的超纯水生产和废水处理能力，满足其庞大的生产需求，对于中小企业，可以提供更加灵活和经济的解决方案，帮助企业提高生产效率和降低运营成本。

超纯科技是一家专注于为泛半导体、新能源光伏、化工等国家重点高科技产业领域提供先进水处理解决方案的国家级专精特新“小巨人”企业。

——DIKI产业智能分析平台

深圳国家高技术产业创新中心（深圳发展改革研究院，以下简称“创新中心”）发布DIKI产业智能分析平台。

深圳国家高技术产业创新中心数字经济研究所副所长，半导体与集成电路产业研究中心主任邓维佳

活动现场，创新中心数字经济研究所副所长，半导体与集成电路产业研究中心主任邓维佳进行DIKI发布演讲，并演示了DIKI的一站式信息检索能力。据介绍，DIKI是创新中心基于国际创新产业信息服务平台开发的一款SaaS产品。它围绕政府、企业、行研机构三类用户，聚焦“20+8”产业，旨在为产业决策者、投资者、分析师提供全面、深入且实时的行业洞察工具，为决策提供科学支撑，让情报赋能产业创新。

目前，DIKI已实现“20+8”产业的十大分析功能全覆盖，更有超3000万特色化产业数据、多个专业化产业分析模型，助力全场景深度产业分析。

现场媒体问到这款平台如何帮助企业应对当前集成电路产业面临的挑战、提升其竞争力，邓维佳回应表示，针对企业客户需求，DIKI集成了看同行、找技术、找人才、找资金、找合作、找政策等极具实用性的功能模块，致力于提升企业竞争力、助推企业发展。

邓维佳举了一个典型案例，找技术模块包含专利分析和前沿论文跟踪两大功能，企业可以使用专利分析板块全面洞察行业龙头和竞争对手的专利策略和技术脉络，从而紧跟行业技术趋势，规避技术风险、优化技术布局；前沿追踪板块帮助企业快速洞察国际最前沿的技术发展趋势，找寻顶尖的产学研合作机构和专家学者。

深圳国家高技术产业创新中心（深圳发展改革研究院），是国家发展和改革委员会与深圳市人民政府共同组建的非营利性公共技术服务机构，企业化管理的事业单位，深圳市法定机构试点单位，深圳市重点企事业单位，归口深圳市发展和改革委员会管理。

——12寸常压外延机台及其在大硅片材料与特色工艺上的应用

研微（江苏）半导体科技有限公司（以下简称“研微半导体”）研发副总许正昱带来《12寸常压外延机台及其在大硅片材料与特色工艺上的应用》，重磅介绍了该公司的常压外延设备Perfectus-A。

研微（江苏）半导体科技有限公司研发副总许正昱

据其介绍，研微半导体的常压外延设备Perfectus-A拥有以下优势：单机可配置六反应腔体，产能提升比国外竞品高1.5倍，更高的产能、更小的占地面积、更低的CoO；模拟优化反应腔设计，以达到Wafer 膜厚和掺杂的均匀性、中间-边缘可调性等性能要求；CIS传感器，功率器件与先进逻辑工艺所需高质量外延片，卓越的电性和缺陷控制；自主研发软件架构达成顶尖的机台稳定性，可靠性和安全性，多层次硬件和软件安全互锁；拥有优秀软件操作系统和智能数据分析平台，世界顶尖工艺/硬件客户服务团队。

现场媒体问及在大硅片材料的加工过程中，12寸常压外研机具体应用于哪些特色工艺以及如何满足当前市场需求，许正昱表示，常压外延主要应用于CIS传感器以及硅基功率芯片这样的特色工艺，常压外延工艺能够生产出高质量低缺陷的硅外延片满足特色工艺的性能需求。

研微半导体成立于2022年，致力于研发、生产和销售具有自主知识产权且具备国际竞争力的半导体设备，专注于原子层沉积（ALD)、 Si外延沉积（Si EPI）、等离子体化学气相沉积（PECVD）、SiC外延（SiC EPI）以及原子层刻蚀（ALE）等设备及工艺技术的研发。